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No entro en nada

No entro en nada 2

Artículo

Propiedades mecánicas de nitruros metálicos depositados con UBM: tecnología eficiente y ambientalmente limpia

Marulanda, D. M.; Bhushan, B.; Olaya, J. J.; Rodil, S. E.

Facultad de Ciencias, UNAM, publicado en Revista Mexicana de Física, y cosechado de Revistas UNAM

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Procedencia del contenido

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Facultad de Ciencias, UNAM
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Revistas UNAM. Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM en revistas@unam.mx

Cita

Marulanda, D. M., et al. (2009). Propiedades mecánicas de nitruros metálicos depositados con UBM: tecnología eficiente y ambientalmente limpia. Revista Mexicana de Física; Vol 55, No 6: 425-0. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/41717

Descripción del recurso

Autor(es)
Marulanda, D. M.; Bhushan, B.; Olaya, J. J.; Rodil, S. E.
Tipo
Artículo de Investigación
Área del conocimiento
Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
Título
Propiedades mecánicas de nitruros metálicos depositados con UBM: tecnología eficiente y ambientalmente limpia
Fecha
2009-01-01
Resumen
El objetivo de esta investigación es estudiar la influencia de la configuración del campo magnético en un sistema de sputtering en las propiedades mecánicas de recubrimientos de CrN, TaN, TiN, nbn y ZrN. Se cuantificaron diferentes configuraciones del campo magnético a través del coeficiente de desbalanceo KG, que es proporcional al punto de campo cero en el magnetrén. En este trabajo de depositaron películas con dos configuraciones del campo magnético,KG=1.3 y 0.825. El efecto más importante de la configuración del campo magnético se observó en la dureza de la película. Al depositar sobre acero AISI M2 y acero 304, mejoraron las propiedades mecánicas y la resistencia al desgaste al aumentar el parámetro de energía; los valores de dureza más altos se obtuvieron para las películas de TaN, NbN y ZrN. Otra consecuencia del cambio en el campo magnético fue la variacién en los esfuerzos residuales de compresión. La variación más alta se presentó en las películas de TaN mientras que las películas de CrN presentaron la menor concentración de esfuerzos.
Tema
Sputtering con magnetrón desbalanceado; CrN; TaN; TiN; NbN; ZrN
Idioma
spa
ISSN
2683-2224 (digital); 0035-001X (impresa)

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