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022.#.#.a: 2683-2224 (digital); 0035-001X (impresa)

310.#.#.a: Bimestral

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No entro en nada 2

Artículo

Preparación de películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante rf-sputtering

Ceballos Alvarez, J.; Galaviz Pérez, J; Montes De Oca, J. A.; Muñoz-saldaña, J; Lahaye, M; Manaud, J P

Facultad de Ciencias, UNAM, publicado en Revista Mexicana de Física, y cosechado de Revistas UNAM

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Facultad de Ciencias, UNAM
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Revistas UNAM. Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM en revistas@unam.mx

Cita

Ceballos Alvarez, J., et al. (2010). Preparación de películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante rf-sputtering. Revista Mexicana de Física; Vol 56, No 002. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/41593

Descripción del recurso

Autor(es)
Ceballos Alvarez, J.; Galaviz Pérez, J; Montes De Oca, J. A.; Muñoz-saldaña, J; Lahaye, M; Manaud, J P
Tipo
Artículo de Investigación
Área del conocimiento
Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
Título
Preparación de películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante rf-sputtering
Fecha
2010-08-27
Resumen
En el presente trabajo se sintetizaron películas delgadas del sistema Ti-Al-O mediante la técnica rf-sputtering sobre sustratos de vidrio y silicio (Si), usando blancos de compuestos intermetálicos de TiAl y Ti3Al en una cámara con atmósfera de Ar-O2. Las películas de Ti- Al-O fueron obtenidas variando parámetros experimentales, tales como el porcentaje de oxígeno alimentado a la cámara de reacción, la densidad de potencia del plasma y la temperatura del sustrato. Las películas depositadas sobre sustratos de vidrio fueron utilizadas para evaluar las propiedades ópticas, mientras que las películas crecidas sobre sustratos de Si fueron empleadas para determinar las propiedades mecánicas y morfológicas. La estructura cristalina, morfología, composición química y propiedades ópticas de las películas fueron evaluadas mediante difracción de rayos X (DRX), microscopía electrónica de barrido de alta resolución (MEB-AR), espectroscopía de electrones Auger (EEA) y espectroscopía UV visible (UV-VIS). El espesor de las películas fue evaluado usando un perfilómetro mecánico. La rugosidad y las propiedades mecánicas, tales como dureza y módulo de elasticidad reducido, fueron analizadas mediante microscopía de fuerza atómica (MFA) y nanoindentación, respectivamente.
Tema
Películas Delgadas; Rf-sputtering; Sistema Ti-al-o
Idioma
spa
ISSN
2683-2224 (digital); 0035-001X (impresa)

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