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506.#.#.a: Público

502.#.#.a: Maestría

650.#.4.x: Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra

336.#.#.b: masterThesis

336.#.#.3: Tesis de maestría

336.#.#.a: Trabajo de grado

351.#.#.6: http://oreon.dgbiblio.unam.mx/F?RN=993413179

351.#.#.b: TESIUNAM

351.#.#.a: Tesis

harvesting_group: TesiUNAM

270.1.#.p: Dirección General de Bibliotecas, UNAM en http://www.dgb.unam.mx/index.php/quienes-somos/dudas-y-comentarios

590.#.#.c: DSpace

270.#.#.d: MX

270.1.#.d: México

590.#.#.b: Concentrador

883.#.#.u: https://ru.dgb.unam.mx/

883.#.#.a: Repositorio de la Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

590.#.#.a: Administración central

883.#.#.1: http://dgb.unam.mx/

883.#.#.q: Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

850.#.#.a: Universidad Nacional Autónoma de México

856.4.0.u: http://132.248.9.195/pd2001/296748/296748.pdf

100.1.#.a: Pichardo Pedrero, Ernesto

524.#.#.a: Pichardo Pedrero, Ernesto. (2001). "Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica". (Tesis de Maestría). Universidad Nacional Autónoma de México, México. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/65335

720.#.#.a: Alonso Huitrón, Juan Carlos asesor

245.1.0.a: Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica

502.#.#.b: Maestría en Ciencia e Ingeniería de Materiales

502.#.#.c: Universidad Nacional Autónoma de México

561.1.#.a: Coordinación General de Estudios de Posgrado, UNAM

264.#.0.c: 2001

264.#.1.c: 2001

307.#.#.a: 2018-12-31

506.1.#.a: La titularidad de los derechos patrimoniales de esta obra pertenece a Pichardo Pedrero, Ernesto. Su uso se rige por una licencia Creative Commons BY-NC-ND 4.0 Internacional, https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/legalcode.es, fecha de asignación de la licencia 2001, para un uso diferente consultar al responsable jurídico del repositorio en bidi@dgb.unam.mx

884.#.#.k: https://ru.dgb.unam.mx/handle/DGB_UNAM/TES01000296748

041.#.7.h: spa

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856.#.0.q: application/pdf

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No entro en nada

No entro en nada 2

Trabajo de grado

Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica

Pichardo Pedrero, Ernesto

Coordinación General de Estudios de Posgrado, UNAM, Tesis, y cosechado de Repositorio de la Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

Licencia de uso

Procedencia del contenido

Cita

Pichardo Pedrero, Ernesto. (2001). "Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica". (Tesis de Maestría). Universidad Nacional Autónoma de México, México. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/65335

Descripción del recurso

Autor(es)
Pichardo Pedrero, Ernesto
Asesor(es)
Alonso Huitrón, Juan Carlos asesor
Tipo
Tesis de maestría
Área del conocimiento
Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
Título
Peliculas delgadas de SiO2 impurificadas con fluor depositadas por plasma para aplicaciones en microelectronica
Fecha
2001
Grado
Maestría en Ciencia e Ingeniería de Materiales

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