dor_id: 41620

506.#.#.a: Público

590.#.#.d: Los artículos enviados a la Revista Mexicana de Física se someten a un estricto proceso de revisión llevado a cabo por árbitros anónimos, independientes y especializados en todo el mundo.

510.0.#.a: Consejo Nacional de Ciencia y Tecnología (CONACyT), Sistema Regional de Información en Línea para Revistas Científicas de América Latina, el Caribe, España y Portugal (Latindex), Scientific Electronic Library Online (SciELO), SCOPUS, Web Of Science (WoS)

561.#.#.u: http://www.fciencias.unam.mx/

650.#.4.x: Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra

336.#.#.b: info:eu-repo/semantics/article

336.#.#.3: Artículo de Investigación

336.#.#.a: Artículo

351.#.#.6: http://revistas.unam.mx/index.php/rmf

351.#.#.b: Revista Mexicana de Física

351.#.#.a: Artículos

harvesting_group: RevistasUNAM

270.1.#.p: Revistas UNAM. Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM en revistas@unam.mx

590.#.#.c: Open Journal Systems (OJS)

270.#.#.d: MX

270.1.#.d: México

590.#.#.b: Concentrador

883.#.#.u: http://www.revistas.unam.mx/front/

883.#.#.a: Revistas UNAM

590.#.#.a: Coordinación de Difusión Cultural

883.#.#.1: http://www.publicaciones.unam.mx/

883.#.#.q: Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM

850.#.#.a: Universidad Nacional Autónoma de México

856.4.0.u: http://revistas.unam.mx/index.php/rmf/article/view/21442/20202

100.1.#.a: Mcdaniel, F. D.; Poudel, P. R.; Rout, B.; Hossain, K. M.; Dhoubhadel, M. S.; Neogi, A.; Kummari, V. C.

524.#.#.a: Mcdaniel, F. D., et al. (2010). Formation and characterization of ion beam assisted nanosystems in silicon. Revista Mexicana de Física; Vol 56, No 004. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/41620

245.1.0.a: Formation and characterization of ion beam assisted nanosystems in silicon

502.#.#.c: Universidad Nacional Autónoma de México

561.1.#.a: Facultad de Ciencias, UNAM

264.#.0.c: 2010

264.#.1.c: 2010-12-02

653.#.#.a: SiC; nanosystems; ion implantation; photoluminescence

506.1.#.a: La titularidad de los derechos patrimoniales de esta obra pertenece a las instituciones editoras. Su uso se rige por una licencia Creative Commons BY-NC-ND 4.0 Internacional, https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/legalcode.es, fecha de asignación de la licencia 2010-12-02, para un uso diferente consultar al responsable jurídico del repositorio por medio de rmf@ciencias.unam.mx

884.#.#.k: http://revistas.unam.mx/index.php/rmf/article/view/21442

041.#.7.h: eng

520.3.#.a: Even though silicon is optically inactive, the nanoscale particle structures (e.g. SiC) in Si or silica matrices are potential candidates for light emitting solid state device applications with higher operation temperatures. The synthesis of these nanostructures involves ion implantation and subsequent thermal annealing. The film thicknesses and sizes of the nanostructures can be controlled by ion energy, fluence, and annealing conditions. Particle accelerator based characterization was used at different stages of formation and analysis of these nanosystems in Si. Results will be presented using infrared spectroscopy (IR), X-ray diffraction spectroscopy (XRD), and photoluminescence (PL) spectroscopy.

773.1.#.t: Revista Mexicana de Física; Vol 56, No 004 (2010)

773.1.#.o: http://revistas.unam.mx/index.php/rmf

046.#.#.j: 2020-11-25 00:00:00.000000

022.#.#.a: 2683-2224 (digital); 0035-001X (impresa)

310.#.#.a: Bimestral

264.#.1.b: Sociedad Mexicana de Física, A.C.

758.#.#.1: http://revistas.unam.mx/index.php/rmf

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856.#.0.q: application/pdf

last_modified: 2020-11-27 00:00:00

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