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520.3.#.a: In this work, we propose the use of Ba1−xSrxTiO3(0 ≤ x ≤ 1) thin films for the construction of MIM (metal-insulator-metal) heterostructures; and their great potential for the develo±ent of non-volatile resistance memories (ReRAM) is shown. The deposition of Ba1−xSrxTiO3 thin films was done by the rf co-sputtering technique using two magnetron sputtering cathodes with BaTiO3 and SrTiO3 targets. The chemical composition (x parameter) in the deposited Ba1−xSrxTiO3 thin films was varied through the rf power applied to the targets. The constructed MIM heterostructures were Al/Ba1−xSrxTiO3/nichrome. The I-V measurements of the heterostructures showed that their hysteretic characteristics change depending on the Ba/Sr ratio of the Ba1−xSrxTiO3 thin films; the Ba/Sr ratio was determined by employing the energy dispersive spectroscopy; SEM micrographs showed that Ba1−xSrxTiO3thin films were uniform without cracks or pinholes. Additionally, the analysis of the x-ray diffraction results indicated the substitutional incorporation of Sr into the BaTiO3 lattice and the obtainment of crystalline films for the entire range of the x values.

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No entro en nada 2

Artículo

Electrical properties of resistive switches based on Ba1-xSrxTiO3 thin films prepared by RF co-sputtering

Meléndez Lira, M.; Hernández Rodríguez, E.; Calzadilla Amaya, O.; Cruz, M. P.; Guillén Rodríguez, J.; Zapata Torres, M.; Márquez Herrera, A.

Facultad de Ciencias, UNAM, publicado en Revista Mexicana de Física, y cosechado de Revistas UNAM

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Revistas UNAM. Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM en revistas@unam.mx

Cita

Meléndez Lira, M., et al. (2010). Electrical properties of resistive switches based on Ba1-xSrxTiO3 thin films prepared by RF co-sputtering. Revista Mexicana de Física; Vol 56, No 005. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/41634

Descripción del recurso

Autor(es)
Meléndez Lira, M.; Hernández Rodríguez, E.; Calzadilla Amaya, O.; Cruz, M. P.; Guillén Rodríguez, J.; Zapata Torres, M.; Márquez Herrera, A.
Tipo
Artículo de Investigación
Área del conocimiento
Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
Título
Electrical properties of resistive switches based on Ba1-xSrxTiO3 thin films prepared by RF co-sputtering
Fecha
2010-12-06
Resumen
In this work, we propose the use of Ba1−xSrxTiO3(0 ≤ x ≤ 1) thin films for the construction of MIM (metal-insulator-metal) heterostructures; and their great potential for the develo±ent of non-volatile resistance memories (ReRAM) is shown. The deposition of Ba1−xSrxTiO3 thin films was done by the rf co-sputtering technique using two magnetron sputtering cathodes with BaTiO3 and SrTiO3 targets. The chemical composition (x parameter) in the deposited Ba1−xSrxTiO3 thin films was varied through the rf power applied to the targets. The constructed MIM heterostructures were Al/Ba1−xSrxTiO3/nichrome. The I-V measurements of the heterostructures showed that their hysteretic characteristics change depending on the Ba/Sr ratio of the Ba1−xSrxTiO3 thin films; the Ba/Sr ratio was determined by employing the energy dispersive spectroscopy; SEM micrographs showed that Ba1−xSrxTiO3thin films were uniform without cracks or pinholes. Additionally, the analysis of the x-ray diffraction results indicated the substitutional incorporation of Sr into the BaTiO3 lattice and the obtainment of crystalline films for the entire range of the x values.
Tema
Barium strontium titanate; thin films; nonvolatile memories; ReRAM cells
Idioma
eng
ISSN
2683-2224 (digital); 0035-001X (impresa)

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