dor_id: 91563

506.#.#.a: Público

502.#.#.a: Doctorado

650.#.4.x: Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra

336.#.#.b: doctoralThesis

336.#.#.3: Tesis de doctorado

336.#.#.a: Trabajo de grado

351.#.#.6: http://oreon.dgbiblio.unam.mx/F?RN=993413179

351.#.#.b: TESIUNAM

351.#.#.a: Tesis

harvesting_group: TesiUNAM

270.1.#.p: Dirección General de Bibliotecas, UNAM en http://www.dgb.unam.mx/index.php/quienes-somos/dudas-y-comentarios

590.#.#.c: DSpace

270.#.#.d: MX

270.1.#.d: México

590.#.#.b: Concentrador

883.#.#.u: https://ru.dgb.unam.mx/

883.#.#.a: Repositorio de la Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

590.#.#.a: Administración central

883.#.#.1: http://dgb.unam.mx/

883.#.#.q: Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

850.#.#.a: Universidad Nacional Autónoma de México

856.4.0.u: http://132.248.9.195/ppt1997/0147830/0147830.pdf

100.1.#.a: Alonso Huitrón, Juan Carlos

524.#.#.a: Alonso Huitrón, Juan Carlos. (1991). "Dióxido de silicio depositado por plasma a partir de una nueva mezcla de gases". (Tesis de Doctorado). Universidad Nacional Autónoma de México, México. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/91563

720.#.#.a: Falcony Guajardo, Ciro, asesor; Muhl Saunders, Stephen, asesor

245.1.0.a: Dióxido de silicio depositado por plasma a partir de una nueva mezcla de gases

502.#.#.b: Doctorado en Ciencias (Física)

502.#.#.c: Universidad Nacional Autónoma de México

561.1.#.a: Coordinación General de Estudios de Posgrado, UNAM

264.#.0.c: 1991

264.#.1.c: 1991

307.#.#.a: 2018-12-08

653.#.#.a: Gel de sílice

506.1.#.a: La titularidad de los derechos patrimoniales de esta obra pertenece a Alonso Huitrón, Juan Carlos. Su uso se rige por una licencia Creative Commons BY-NC-ND 4.0 Internacional, https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/legalcode.es, fecha de asignación de la licencia 1991, para un uso diferente consultar al responsable jurídico del repositorio en bidi@dgb.unam.mx

884.#.#.k: https://ru.dgb.unam.mx/handle/DGB_UNAM/TES01000147830

041.#.7.h: spa

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856.#.0.q: application/pdf

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No entro en nada

No entro en nada 2

Trabajo de grado

Dióxido de silicio depositado por plasma a partir de una nueva mezcla de gases

Alonso Huitrón, Juan Carlos

Coordinación General de Estudios de Posgrado, UNAM, Tesis, y cosechado de Repositorio de la Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

Licencia de uso

Procedencia del contenido

Cita

Alonso Huitrón, Juan Carlos. (1991). "Dióxido de silicio depositado por plasma a partir de una nueva mezcla de gases". (Tesis de Doctorado). Universidad Nacional Autónoma de México, México. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/91563

Descripción del recurso

Autor(es)
Alonso Huitrón, Juan Carlos
Asesor(es)
Falcony Guajardo, Ciro, asesor; Muhl Saunders, Stephen, asesor
Tipo
Tesis de doctorado
Área del conocimiento
Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
Título
Dióxido de silicio depositado por plasma a partir de una nueva mezcla de gases
Fecha
1991
Grado
Doctorado en Ciencias (Física)
Tema
Gel de sílice

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