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506.#.#.a: Público

502.#.#.a: Maestría

650.#.4.x: Ingenierías

336.#.#.b: masterThesis

336.#.#.3: Tesis de maestría

336.#.#.a: Trabajo de grado

351.#.#.6: http://oreon.dgbiblio.unam.mx/F?RN=993413179

351.#.#.b: TESIUNAM

351.#.#.a: Tesis

harvesting_group: TesiUNAM

270.1.#.p: Dirección General de Bibliotecas, UNAM en http://www.dgb.unam.mx/index.php/quienes-somos/dudas-y-comentarios

590.#.#.c: DSpace

270.#.#.d: MX

270.1.#.d: México

590.#.#.b: Concentrador

883.#.#.u: https://ru.dgb.unam.mx/

883.#.#.a: Repositorio de la Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

590.#.#.a: Administración central

883.#.#.1: http://dgb.unam.mx/

883.#.#.q: Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

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856.4.0.u: http://132.248.9.195/ptb2011/junio/0669858/0669858_A1.pdf

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245.1.0.a: Desarrollo de mascaras para litografía a partir de monocapas de partículas coloidales de sílice

502.#.#.b: Maestría en Ciencias e Ingeniería de Materiales

502.#.#.c: Universidad Nacional Autónoma de México

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264.#.0.c: 2011

264.#.1.c: 2011

506.1.#.a: La titularidad de los derechos patrimoniales de esta obra pertenece a Reséndiz López, Eder. Su uso se rige por una licencia Creative Commons BY-NC-ND 4.0 Internacional, https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/legalcode.es, fecha de asignación de la licencia 2011, para un uso diferente consultar al responsable jurídico del repositorio en bidi@dgb.unam.mx

884.#.#.k: https://ru.dgb.unam.mx/handle/DGB_UNAM/TES01000669858

041.#.7.h: spa

500.#.#.a: 1 recurso en línea (57 páginas)

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No entro en nada

No entro en nada 2

Trabajo de grado

Desarrollo de mascaras para litografía a partir de monocapas de partículas coloidales de sílice

Reséndiz López, Eder

Coordinación General de Estudios de Posgrado, UNAM, Tesis, y cosechado de Repositorio de la Dirección General de Bibliotecas y Servicios Digitales de Información

Licencia de uso

Procedencia del contenido

Cita

Reséndiz López, Eder. (2011). "Desarrollo de mascaras para litografía a partir de monocapas de partículas coloidales de sílice". (Tesis de Maestría). Universidad Nacional Autónoma de México, Coordinación General de Estudios de Posgrado, UNAM. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/3449075

Descripción del recurso

Autor(es)
Reséndiz López, Eder
Asesor(es)
Cheang Wong, Juan Carlos
Tipo
Tesis de maestría
Área del conocimiento
Ingenierías
Título
Desarrollo de mascaras para litografía a partir de monocapas de partículas coloidales de sílice
Fecha
2011
Grado
Maestría en Ciencias e Ingeniería de Materiales

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