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No entro en nada

No entro en nada 2

Artículo

Cu 4O3 thin films deposited by non-reactive rf-magnetron sputtering from a copper oxide target

Cruz Almazán, M. A.; Vigueras Santiago, E.; López, R.; Hernández López, S.; Castrejón Sánchez, V. Hugo; Esparza, A.; Encarnación Gómez, C.

Facultad de Ciencias, UNAM, publicado en Revista Mexicana de Física, y cosechado de Revistas UNAM

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Revistas UNAM. Dirección General de Publicaciones y Fomento Editorial, UNAM en revistas@unam.mx

Cita

Cruz Almazán, M. A., et al. (2021). Cu 4O3 thin films deposited by non-reactive rf-magnetron sputtering from a copper oxide target. Revista Mexicana de Física; Vol. 67 No. 3, 2021; 495–499. Recuperado de https://repositorio.unam.mx/contenidos/4128580

Descripción del recurso

Autor(es)
Cruz Almazán, M. A.; Vigueras Santiago, E.; López, R.; Hernández López, S.; Castrejón Sánchez, V. Hugo; Esparza, A.; Encarnación Gómez, C.
Tipo
Artículo de Investigación
Área del conocimiento
Físico Matemáticas y Ciencias de la Tierra
Título
Cu 4O3 thin films deposited by non-reactive rf-magnetron sputtering from a copper oxide target
Fecha
2021-05-01
Resumen
Copper oxide thin films deposited by sputtering are frequently formed by using metal copper targets in reactive atmospheres. In this report, paramelaconite (Cu4O3) thin films were deposited by non-reactive rf magnetron sputtering. The target used for sputtering was a copper oxide disk fabricated by oxidation of metal copper at 1000 °C for 24 h in airatmosphere. X-ray diffraction (XRD) results showed that the copper oxide target was mainly composed of cupric oxide (CuO) and cuprous oxide (Cu2O) crystals. Raman analyses suggested that the surface of the copper oxide disk is composed by a (CuO) layer. XRD measurements performed to the copper oxide thin films deposited by non-reactive rf magnetron sputtering showed that the film is composed of (Cu4O3) crystals. However,Raman measurements indicated that the Cu4O3 thin films are also composed by amorphous CuO and Cu2O.
Tema
Paramelaconite; cu​4​o​3​; non reactive sputtering; thermal oxidation
Idioma
eng
ISSN
ISSN electrónico: 2683-2224; ISSN impreso: 0035-001X

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